磁電彈性材料含納米尺度唇口次生兩不對稱裂紋的反平面問題

摘要： 基于Gurtin-Murdoch表面彈性理論和磁電彈性(MEE)理論，利用解析函數(shù)的保角映射技術(shù)，研究了反平面機械載荷和面內(nèi)電磁載荷作用下，MEE材料中含有納米尺度唇口次生兩不對稱裂紋的斷裂行為，給出了缺陷(裂紋和唇口孔)周圍廣義MEE應(yīng)力場和裂紋尖端MEE場強度因子以及能量釋放率的解析解.在特殊條件下，所得結(jié)果退化為已有結(jié)果或者給出新的結(jié)果.數(shù)值算例揭示了缺陷表面效應(yīng)對裂紋尖... （共13頁）