近紅外光譜成像技術(shù)的概述
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        按美國(guó)材料檢測(cè)協(xié)會(huì)(ASTM)定義,近紅外光區(qū)域是指波長(zhǎng)在780～2526nm范圍的電磁波,介乎于可見(jiàn)光和中紅外光之間,是最早被發(fā)現(xiàn)的非可見(jiàn)光。光學(xué)相干斷層成像(OCT)和近紅外光譜成像(near-in-fraredspectroscopy,NIRS)都是利用近紅外光成像的技術(shù)    （共 1007 字）     [閱讀本文] >>